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投资要点

公司发布2023 年第一季度报告和2023 年限制性股票激励计划（草案）。2022 年营收28.73 亿元，同增77.25%；归母净利润6.68 亿元，同增151.08%；扣非归母净利润6.9 亿元，同增254.27%；毛利率48.9%，同增6.4pcts 。23Q1 实现营收6.16 亿元，同增74.09%；归母净利润1.31 亿元，同增2937.19%；扣非归母净利润1.09 亿元，同增360.26%；毛利率54.61%，同增7.45pcts，环增1.46pcts；合同负债9.44亿元，环增14.84%。公司预测2023 年营收为36.5 亿元至42.5 亿元，同增27%至48%。

股权激励彰显长远信心，营收和专利申请数双重要求此次激励计划共授予1331 万股，约占公告日股本总额4.34 亿股的3.07%；其中，首次授予不超过1065 万股，预留266 万股。计划涵盖515 人，占公司员工总数（截至2022 年12 月31 日）的42.95%。授予价格为50.15 元/股。考核年度为2023年至2026 年四个会计年度。根据各考核年度所使用的营业收入增长率（参考标准为Gartner 公布相应年度全球半导体设备厂商销售额排名前五的公司营收增速）或收入增速累计值、各考核年度的专利申请数进行考核，考核权重分别为80%、20%。

2023 年至2027 年摊销费用分别为2.02/2.51/1.35/0.67/0.18 亿元。

国产清洗设备龙头地位稳固，技术领先助力海外市场开拓公司年报数据表示，2021 年公司在全球单片清洗设备的市场份额为5.1%。公司现有SAPS 兆声波清洗、TEBO 兆声清洗、单晶圆槽式组合Tahoe 高温硫酸清洗三大核心清洗技术。依据2022 年12 月投资者活动纪要，超临界CO2 干燥技术的研发已快出成果，该技术目前全球仅有三家公司拥有；同时目前公司清洗产品覆盖了90%的清洗设备。2022 年公司成功推出18 腔300mm Ultra C VITM 单晶圆清洗设备。2022 年11 月，公司湿法设备突破3000 腔大关。2023 年2 月获得来自欧洲的首个12 腔单片SAPS 兆声波清洗设备订单，预计23Q4 交付。2023 年3 月公司首次获得Ultra C SiC 碳化硅衬底清洗设备的订单，预计23Q3 末发货。

多产线布局协同发展，新品研发卓有成效

公司积极布局除清洗设备外的其他前道工艺设备、后道先进封装工艺设备以及硅材料衬底制造工艺设备。2022 年公司推出了新型化合物半导体湿法刻蚀设备、先进封装用涂胶设备、Post-CMP 清洗设备、新型热原子层沉积Ultra FnATM 立式炉设备、新添金属剥离工艺的Ultra C prTM设备、前道ArF 工艺涂胶显影设备、Ultra PmaxPECVD 设备等多种设备。在涂胶显影领域，公司预计将于2023 年推出i-line 型号设备，并已开始着手研发KrF 型号设备。2022 年8 月，公司ECP 设备500 电镀腔顺利交付。

投资建议：我们公司预测2023 年至2025 年营业收入分别为38.01/48.7/59.6 亿元，增速分别为32.3%/28.1%/22.4%；归母净利润分别为8.01/10.16/12.15 亿元，增速分别为19.9%/26.7%/19.6%；对应PE 分别为61.2/48.3/40.4 倍。公司清洗技术国际领先，产品布局广泛，受益于半导体设备国产化，首次覆盖，给予增持-A 建议。

风险提示：下游需求恢复不及预期，产品研发不及预期，市场竞争加剧